一、缩小投影电子束曝光原理论证机（论文文献综述）
李海宁[1]（2018）在《曲面狭缝间接触压力传感方法及无线监测技术研究》文中研究说明接触压力的实时监测对于对象状态监控和故障诊断分析具有十分重要的意义。针对特定的极端环境开展接触压力传感方法研究,已经成为传感器技术发展中面临的重要课题。金属曲面狭缝是一种特殊的极端环境,其在敏感器件尺寸、封装方法和信号传输方法等方面对测量系统提出了更为苛刻的要求。本文围绕曲面狭缝环境,分别开展了基于声表面波（SAW）谐振器和基于应变变形机理的两种接触压力无源无线测量方法研究。从分析曲面狭缝环境的应力分布特点和电磁波耦合特性出发,讨论了置入式传感器尺寸、刚度对狭缝环境中应力分布的影响情况,仿真估算了金属狭缝环境对其内部传感器的电磁屏蔽程度。以此为基础围绕两种不同的传感技术,分别开展了曲面狭缝环境中接触压力信号的获取、转换以及无线传输等关键环节的研究。具体内容如下:（1）基于SAW传感器的无源无线工作模式和周边固支圆膜片几何结构模型,提出一种基于单端SAW谐振器的圆膜片式多层薄膜力敏元件结构,用于曲面狭缝中接触压力的测量,仿真和分析了各层薄膜厚度和弹性模量对输出灵敏度的影响规律。结果显示,圆膜片中心位置的应力分布均匀且连续,是放置单通道高压力灵敏系数谐振器的理想选择。圆膜片空腔的大小是影响力敏元件灵敏度的主要因素。（2）建立单端SAW谐振器的耦合模模型,结合导纳曲线分析了谐振器关键尺寸参数对谐振器性能的影响。采用剥离工艺加工制作了SAW谐振器,分析了各工艺环节中的关键问题。力敏元件的封装采用了柔性薄膜用以有效传递大刚度接触面间的压力。通过开展柔性微带传输线和贴片天线优化设计方法的研究,制作了与SAW谐振器相匹配的无线访问单元。搭建的无源无线接触压力测量系统在0-4Mpa载荷范围内呈现出良好的线性度和测量精度。实验证明,大刚度接触环境中弹性薄膜的使用虽然可以提高压力传递效率,但是同时也会引起传感器的迟滞性误差。（3）基于应变式无源无线接触压力测量方法,提出一种多层薄膜封装的应变式力敏元件结构,各层薄膜的厚度和弹性模量对灵敏度的影响呈现出规律性。介质层的厚度和材料常数是影响力敏元件灵敏度的直接因素。支承基底的弹性模量主要影响应变状态而对挠度影响很小,因此可以通过支承基底弹性模量的合理取值来缓解应力集中现象。基于无线通信技术,搭建了接触压力无线测量系统并分析了信号处理的关键环节,实现了应变敏感信号的准确获取和稳定传输。应变式接触压力测量系统的加卸载测试结果表明,系统呈现出良好的线性度、测量精度和迟滞性。综上所述,本文利用无源无线传感技术在特殊极端测量环境中的优势,提出了曲面狭缝间接触压力测量方法,论文研究了曲面狭缝环境中接触压力信号的获取、转换以及无线传输关键环节,形成了大刚度接触面环境中力敏元件的设计方法和封装原则,通过仿真分析和实验测试,验证了薄膜力敏元件在曲面狭缝中的作用规律,揭示了力敏元件关键参数（各层厚度和弹性模量）对传感器灵敏度的影响机理。以无源无线方式实现曲面狭缝环境中接触压力敏感信号的测量,既为传感器的进一步工程化应用提供了理论依据,同时也对其他类似极端环境中物理量的测量具有指导性意义。本课题来源于国家自然科学基金课题“封闭球型壳体狭缝间作用力监测方法研究”,项目编号11076007。本文的部分研究成果已经成为曲面狭缝间传感器进一步工程化应用的理论依据,同时对未来成熟传感器产品的设计、封装及测试具有指导性意义。
龙宇[2]（2015）在《全息张量阻抗调制表面天线研究》文中进行了进一步梳理全息技术源于物理光学,是一种可以完全记录并重现物体3D图像的成像技术。基于全息技术的张量人工阻抗调制表面天线利用在其表面上传播的表面波激励起漏波辐射,在不需要复杂馈电网络的情况下即可获得较高的增益,并且其远区场的极化方式灵活。得益于其重量轻、剖面低的特点,这种天线也有着较强的共形潜能。因此,全息张量阻抗调制表面天线不仅理论研究价值较高,其应用前景也十分广阔。围绕全息张量阻抗调制表面天线这一研究主题,本文首先介绍了全息阻抗调制表面天线的发展背景和国内外研究动态;然后结合传统漏波天线和光学全息原理,对其基本辐射理论进行了分析;接着,文章重点阐述了标量/张量表面阻抗提取理论和仿真计算,并针对张量型表面阻抗拟合提出了一种简化处理方法,大大减少了所需的仿真数据量,提高了天线设计效率,同时对标量/张量表面阻抗的全息调制公式进行了详尽地论述和推导;最后,论文利用提取的表面阻抗数据、阻抗拟合公式及提出的阻抗调制公式进行了天线建模仿真验证,包括基于标量表面阻抗调制的线极化天线和基于张量表面阻抗调制的圆极化天线,并对其中一款张量型右旋圆极化天线进行了加工和测试。天线仿真及测试结果良好,证明了表面阻抗提取、拟合、调制以及天线设计的正确性和可靠性。
申爽[3]（2007）在《基于固体成像器件的液相色谱检测器研究》文中研究指明液相色谱检测器是液相色谱系统的核心部件，在液相色谱中起着非常重要的作用。液相色谱检测器的多通道检测和高性能是它的主要发展趋势。本文共提出了以下几种基于固体成像器件的液相色谱检测器的设计方案：（1）首先设计了一种基于SSPD的多波长紫外可见吸收检测器。光源发出的光经过透镜组聚焦后射入样品检测池，未被样品吸收透射出的光被光纤束收集，经狭缝射到凹面光栅上，分光成像于SSPD上。检测器能够实现16个波长的色谱数据的同时检测。（2）为了实现更多波长通道的色谱数据的检测，设计了一种基于光纤的单光束光电二极管阵列检测器。系统采用光纤束和凹面光栅实现分光，采用SSPD接收光谱信息。系统实时测量SSPD的暗电流噪声并进行补偿克服其影响，采用内参比技术降低光源强度波动对色谱信号造成的影响。检测器能够同时检测波长范围内所有波长的色谱数据。（3）为了降低光源波动对检测器性能的影响，设计了一种基于光纤的双光束光电二极管阵列检测器。该检测器采用光导纤维束将光源发出的光分成两束，在斩光器的调制下分时射入样品吸收池和参比吸收池。出射的信号光和参考光被Y型光纤束收集，通过狭缝后被凹面光栅分光成像于SSPD上。系统实现了在同一个SSPD上信号光谱、参考光谱和暗电流的分时测量，可以有效降低光源波动对系统性能的影响。（4）因为紫外光纤价格昂贵，并且有寿命限制，故设计了一种基于分光镜的双光束光电二极管阵列检测器。该检测器采用分光镜实现光的分束和合束，采用凹面光栅实现分光系统，SSPD作为光电接收元件。系统在斩光器和后续电路的配合下，实现了在同一个SSPD上信号光谱、参考光谱和暗电流的分时测量。（5）因为CCD与SSPD相比具有量子效率高，暗电流小，读出噪声低等优点，故设计了一种基于CCD的双光栅多波长紫外可见吸收检测器。检测器采用双光束结构，信号光和参考光射入到多色仪的各自的狭缝上，并被各自的凹面光栅分光成像于CCD光敏面的不同部位上，实现了在同一片CCD上信号光谱、参考光谱和暗电流的同时测量。（6）设计了一种基于CCD的单光栅多波长紫外可见吸收检测器。检测器采用双光束结构，信号光射入样品吸收池，透射出的信号光和参考光均被光学系统收集，经过斩光器后通过各自的狭缝后射入到同一凹面光栅上被其分光成像于CCD的不同位置上。系统实时进行杂散光补偿，计算出信号光谱和参比光谱。
刘伟[4]（2006）在《纳米级电子束曝光系统用图形发生器技术研究》文中指出纳米级电子束曝光系统是微纳加工的重要设备,图形发生器是电子束曝光系统的核心部件,包括硬件和软件两部分。硬件设计吸纳了近年来数字信号处理的最新成果,利用高性能数字信号处理器（DSP）将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的数模转换电路,将数字量转化成高精度的模拟量,驱动扫描电镜的偏转器,实现电子束的扫描。为此目的特构建了x方向和y方向两组数模转换电路,每组包括1个16位主数模和3个16位乘法数模。通过图形发生器可以对标准样片进行图像采集,进行扫描场的线性畸变校正,包括扫描场增益、旋转和位移校正。另外,图形发生器还可以控制束闸的通断。配合精密定位工件台和激光干涉仪,可以实现曝光场的拼接,拼接精度优于0. 2μm。通过检测芯片的标记,还可以实现曝光图形的套刻。利用配套软件既可以新建曝光图形,也可以导入通用格式文件,例如CIF和GDSII文件,进行曝光参数设置、图形修正、图形分割、邻近效应修正等工作,然后将曝光图形数据转换成图形发生器可以识别的EDF文件,完成曝光图形的准备工作。图形发生器可直接处理的单元图形包括:矩形、梯形、折线、点、圆及圆环。该图形发生器能够与扫描电子显微镜、聚焦离子束设备以及扫描探针显微镜连接,组建成纳米级光刻系统。我们将图形发生器与JSM-6360（LaB6阴极）扫描电子显微镜连接,进行了大量实验,得到了多组曝光图形,最细线条为28 .6nm。
彭开武,田丰[5]（2005）在《纳米级高压扫描电子束曝光技术》文中研究指明通过简单添加一些附件,将一台带有扫描附件的商用透射电子显微镜改造为一台高压扫描电子束曝光机,以研究高压下高分辨率、高深宽比抗蚀剂图形曝光及邻近效应的影响。重点介绍了如何获得一个高分辨率的电子光学系统,并利用此系统初步进行了曝光实验,在120nm厚的PMMA胶上获得了53nm线宽的抗蚀剂图形,表明此装置可用于纳米图形的制作。
彭开武,张福安,顾文琪[6]（2002）在《缩小投影电子束曝光机的调试技术》文中研究说明详细介绍了在透射电镜上进行缩小投影电子束曝光技术原理性实验的主要调试过程。它充分利用了透射电镜本身的功能与特点。整个调试方法不仅可获得高分辨率图形 ,而且为下一步的研究工作提供了比较好的工作参数。
彭开武,顾文琪,张福安,吴桂君[7]（2002）在《缩小投影电子束曝光系统的成像反差》文中指出结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差 ,详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方法
初明璋,顾文琪,张福安,彭开武,时东霞[8]（2002）在《电子束投影曝光装置实验结果分析》文中指出主要介绍了电子束缩小投影曝光机的工作原理及其特点 ,针对在原理论证机上做的实验 ,着重分析讨论了聚光镜电流的大小对曝光结果的影响
彭开武,顾文琪,吴桂君,张福安[9]（2001）在《缩小投影电子束曝光原理论证机》文中指出系统阐述了缩小投影 （或纳米投影 ）电子束曝光技术的原理 ,以及如何将一台透射电镜改装为原理论证机的主要过程。内容包括机械结构的变动、电子光路的选择、调焦及曝光、成像系统的逐步演化、实验曝光结果与结论
二、缩小投影电子束曝光原理论证机（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、缩小投影电子束曝光原理论证机（论文提纲范文）
（1）曲面狭缝间接触压力传感方法及无线监测技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 曲面狭缝间接触压力监测问题 |
| 1.1.1 极端环境中压力传感技术的研究背景 |
| 1.1.2 曲面狭缝间接触压力测量关键问题及研究意义 |
| 1.2 接触压力传感技术的研究现状 |
| 1.2.1 压力传感器的工作机理研究 |
| 1.2.2 传感信息的访问模式研究 |
| 1.3 声表面波传感技术研究现状 |
| 1.3.1 SAW无源无线传感技术概述 |
| 1.3.2 SAW压力传感系统研究现状 |
| 1.4 主要研究内容及论文结构 |
| 1.4.1 主要研究内容 |
| 1.4.2 论文结构 |
| 第二章 曲面狭缝间接触压力信号获取方法研究 |
| 2.1 曲面狭缝间应力分布规律和电磁耦合特性研究 |
| 2.1.1 应力分布规律 |
| 2.1.2 电磁耦合特性 |
| 2.2 基于SAW器件的力敏元件工作机理 |
| 2.2.1 SAW器件的工作原理 |
| 2.2.2 圆膜片式多层薄膜力敏元件基本结构 |
| 2.2.3 关键尺寸参数对应力应变分布的影响 |
| 2.3 应变式力敏元件工作机理 |
| 2.3.1 应变计的工作原理 |
| 2.3.2 基于多层薄膜封装的应变式力敏元件基本结构 |
| 2.3.3 力敏元件灵敏度的影响因素研究 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 用于曲面狭缝测力的SAW谐振器设计与制作 |
| 3.1 SAW谐振器的耦合模(COM)分析模型 |
| 3.1.1 均匀IDT的COM方程 |
| 3.1.2 IDT的P矩阵形式 |
| 3.2 谐振器性能的影响因素研究 |
| 3.2.1 SAW谐振器的关键参数 |
| 3.2.2 尺寸参数下的COM模型仿真 |
| 3.3 声表面波谐振器的加工与测试 |
| 3.3.1 声表面波谐振器的关键加工工艺 |
| 3.3.2 SAW谐振器的表面形貌观察 |
| 3.3.3 电学性能测试 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 SAW传感器的力敏元件封装与系统测试 |
| 4.1 圆膜片式多层柔性薄膜封装方法研究 |
| 4.1.1 SAW器件封装关键问题 |
| 4.1.2 曲面狭缝间力敏结构的封装 |
| 4.2 SAW传感器的无线信号传输单元设计 |
| 4.2.1 SAW器件的无线访问技术方案 |
| 4.2.2 狭缝间微带传输线的设计 |
| 4.2.3 微带天线的设计 |
| 4.3 模拟狭缝环境接触压力测试实验与结果分析 |
| 4.3.1 SAW接触压力测量系统 |
| 4.3.2 传感系统的有线测试 |
| 4.3.3 传感系统的无线测试 |
| 4.3.4 讨论与分析 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 应变式接触压力无线测量技术研究 |
| 5.1 应变式接触压力传感技术方案 |
| 5.1.1 基于多层薄膜结构的应变式力敏元件封装 |
| 5.1.2 无线访问机理 |
| 5.2 无线测量系统中的关键环节 |
| 5.2.1 关键环节分析 |
| 5.2.2 误差来源分析 |
| 5.2.3 硬件电路的实现 |
| 5.3 应变式接触压力传感器的测试实验 |
| 5.3.1 测试系统的搭建 |
| 5.3.2 加卸载性能测试 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 主要创新点 |
| 6.3 工作展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 |
（2）全息张量阻抗调制表面天线研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 选题背景和意义 |
| 1.2 光学全息及全息天线技术的发展 |
| 1.3 全息阻抗调制表面天线的国内外研究动态 |
| 1.4 论文主要工作和内容安排 |
| 第二章 全息阻抗调制表面天线基本原理 |
| 2.1 表面波和表面阻抗 |
| 2.2 周期阻抗调制漏波天线 |
| 2.2.1 周期结构的色散和谐波特性 |
| 2.2.2 传统周期结构漏波天线 |
| 2.2.3 正弦阻抗调制表面漏波天线 |
| 2.3 全息原理和传统全息天线 |
| 2.3.1 光学全息原理 |
| 2.3.2 基于全息原理的传统全息天线 |
| 2.4 全息阻抗调制表面天线 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 张量表面阻抗计算和全息调制 |
| 3.1 表面阻抗单元建模 |
| 3.2 表面阻抗提取 |
| 3.2.1 标量表面阻抗的计算和仿真 |
| 3.2.2 张量表面阻抗的等效标量表面阻抗 |
| 3.2.3 张量表面阻抗的计算和仿真 |
| 3.3 表面阻抗全息调制 |
| 3.3.1 全息标量表面阻抗调制 |
| 3.3.2 全息张量表面阻抗调制 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 全息张量阻抗调制表面天线设计 |
| 4.1 全息阻抗调制表面天线设计流程 |
| 4.2 全息标量阻抗调制表面天线 |
| 4.2.1 常规调制方式 |
| 4.2.2 修正调制方式 |
| 4.3 全息张量阻抗调制表面圆极化天线 |
| 4.3.1 法向圆极化天线 |
| 4.3.2 任意方向圆极化天线 |
| 4.3.3 大尺寸任意方向圆极化天线 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 全文工作总结 |
| 5.2 后续研究展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 |
（3）基于固体成像器件的液相色谱检测器研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.3 本文的研究内容与章节安排 |
| 2 固体成像器件的接口电路设计 |
| 2.1 S3904系列SSPD接口电路设计 |
| 2.1.1 自扫描光电二极管阵列(SSPD) |
| 2.1.2 S3904系列SSPD简介 |
| 2.1.3 S3904系列SSPD的接口电路设计 |
| 2.1.4 小结 |
| 2.2 S9840系列CCD接口电路设计 |
| 2.2.1 电荷耦合器件(CCD) |
| 2.2.2 S9840系列CCD简介 |
| 2.2.3 S9840系列CCD接口电路设计 |
| 2.2.4 小结 |
| 3 基于SSPD的液相色谱检测器的设计 |
| 3.1 基于SSPD的多波长紫外可见吸收检测器的设计 |
| 3.1.1 总体设计 |
| 3.1.2 光学设计 |
| 3.1.3 硬件设计 |
| 3.1.4 软件设计 |
| 3.1.5 热设计 |
| 3.1.6 电磁兼容性设计 |
| 3.1.7 测试结果 |
| 3.1.8 小结 |
| 3.2 基于光纤的单光束光电二极管阵列检测器的设计 |
| 3.2.1 总体设计 |
| 3.2.2 光学设计 |
| 3.2.3 硬件设计 |
| 3.2.4 软件设计 |
| 3.2.5 测试结果 |
| 3.2.6 小结 |
| 3.3 基于光纤的双光束光电二极管阵列检测器的设计 |
| 3.3.1 光学设计 |
| 3.3.2 硬件设计 |
| 3.3.3 软件设计 |
| 3.3.4 测试结果 |
| 3.3.5 小结 |
| 3.4 基于分光镜的双光束光电二极管阵列检测器的设计 |
| 3.4.1 光学设计 |
| 3.4.2 软件设计 |
| 3.4.3 测试结果 |
| 3.4.4 小结 |
| 4 基于CCD的液相色谱检测器的设计 |
| 4.1 基于CCD的双光栅多波长紫外可见检测器的设计 |
| 4.1.1 光学设计 |
| 4.1.2 硬件设计 |
| 4.1.3 软件设计 |
| 4.1.4 测试结果 |
| 4.1.5 小结 |
| 4.2 基于CCD的单光栅多波长紫外可见检测器的设计 |
| 4.2.1 光学设计 |
| 4.2.2 软件设计 |
| 4.2.3 测试结果 |
| 4.2.4 小结 |
| 结论 |
| 创新点摘要 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 |
| 致谢 |
（4）纳米级电子束曝光系统用图形发生器技术研究（论文提纲范文）
| 一、 前言 |
| 二、 图形发生器软件系统 |
| 三、 图形发生器硬件架构 |
| 四、 曝光控制 |
| 五、 扫描场校正 |
| 六、 拼接和套刻 |
| 七、 实验结果 |
| 八、 总结 |
| 参考文献 |
| 发表论文 |
| 致谢 |
| 附录一 |
| 附录二 |
| 附录三 |
| 附录四 |
| 论文答辩说明 |
| 关于论文使用授权的说明 |
（5）纳米级高压扫描电子束曝光技术（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 曝光系统的实现 |
| 2.1 电子显微镜的选择 |
| 2.2 电子光学系统的选择 |
| 2.3 需添加的附件及防震措施 |
| 3 实验过程及结果 |
| 4 结论 |
（9）缩小投影电子束曝光原理论证机（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 缩小投影电子束曝光原理 |
| 3 改装原理机时所需的机械结构变动 |
| 3.1 整机性能 |
| (1) 晶格条纹分辨率0.14nm, 点分辨率0.3nm。 |
| (2) 具有手动调节所有透镜电流值的能力。 |
| 3.2 照明系统 |
| 3.3 成像系统 |
| 4 电子光路的选择与调焦 |
| 4.1 采用物镜光阑作为角度限制光阑 |
| 4.2 采用限场光阑作为角度限制光阑 |
| 5 成像系统的逐步演化 |
| 5.1 采用多级成像系统 |
| 5.2 采用两级成像系统即OM与INT3 (或PROJ) 组合 |
| 5.3 采用单级成像系统 |
| 6 实验结果及结论 |
四、缩小投影电子束曝光原理论证机（论文参考文献）
- [1]曲面狭缝间接触压力传感方法及无线监测技术研究[D]. 李海宁. 电子科技大学, 2018(10)
- [2]全息张量阻抗调制表面天线研究[D]. 龙宇. 电子科技大学, 2015(02)
- [3]基于固体成像器件的液相色谱检测器研究[D]. 申爽. 大连理工大学, 2007(01)
- [4]纳米级电子束曝光系统用图形发生器技术研究[D]. 刘伟. 中国科学院研究生院（电工研究所）, 2006(09)
- [5]纳米级高压扫描电子束曝光技术[J]. 彭开武,田丰. 微纳电子技术, 2005(05)
- [6]缩小投影电子束曝光机的调试技术[J]. 彭开武,张福安,顾文琪. 微细加工技术, 2002(04)
- [7]缩小投影电子束曝光系统的成像反差[J]. 彭开武,顾文琪,张福安,吴桂君. 微细加工技术, 2002(03)
- [8]电子束投影曝光装置实验结果分析[J]. 初明璋,顾文琪,张福安,彭开武,时东霞. 微细加工技术, 2002(03)
- [9]缩小投影电子束曝光原理论证机[J]. 彭开武,顾文琪,吴桂君,张福安. 微细加工技术, 2001(04)