一、椭圆偏振光的检验与偏振光的干涉（论文文献综述）
高利[1]（2021）在《基于Pockels效应的交直流混合场一体化测量方法研究》文中研究指明随着智能电网的发展,交直流线路并行或同塔架设的情况愈加普遍,传统电压互感器难以满足交直流电场一体化测量的要求。光学电场传感系统具有高电场隔离性、灵敏度高、体积小、非接触以及频带宽等优点,因此发展光学电场传感器有着广泛的前景。因此,本文综合光学电场传感器的优点与问题,探究了混合场一体化测量方法,改善了光学传感器电光晶体周围电场分布,提出了非平稳信号的处理算法。首先,基于Pockels效应应用偏振光系统的Jones计算法建立了旋转式光学电场的传感模型。基于该传感模型,分析得出旋转式光学直流电场、交流电场以及交直流混合场的测量方法。在理论模型的基础上,建立了相关有限元仿真模块,验证了传感模型与测量方法的有效性。其次,针对电场不均匀影响测量精度问题,建立了BGO晶体周围电场分布模型,提出了刻画电场均匀度的评价指标,分析了BGO晶体电场分布均匀度的影响因素,提出了光学传感器电光晶体的优化结构,通过仿真计算其优化前后电场均匀度变化,验证了所提优化结构的可行性。再次,针对高频次噪声干扰问题,提出了基于扩展Kalman滤波的光学电场信号滤波算法。在滤除干扰波的基础上,为了精确得到不同频率下的输出信号幅值,以Hilbert-Huang经验模态分解为基础,分析了电场测量输出原始信号的Hilbert谱,并且给出不同频率下的测量方案。最后,搭建了光学交直流混合场一体化测量实验平台;分别进行交流电场、直流电场标定实验,在实际环境中模拟交直流混合场进行测量,通过交直流一体化测量实验验证了理论推导和结构优化的正确性。
许多[2]（2021）在《双折射晶体薄片快轴和厚度均匀性定标技术研究》文中认为在偏振成像探测技术中,分焦平面偏振成像探测技术因其结构紧凑、实时性好等优点,成为该方案及其应用的发展趋势。本文聚焦传统分焦平面偏振成像探测技术加工难度大、成像参数不全面等问题,利用双折射晶体编码手段,提出了基于双折射晶体编码的分焦平面偏振成像探测方案,通过理论仿真对该方案进行了系统参数优化、误差分析等研究,并通过实验的手段对其中的必要组件——双折射晶体薄片进行了快轴和厚度均匀性的定标研究。首先,在偏振测量理论的基础上,对提出的基于双折射晶体编码的分焦平面偏振成像探测方案进行详细介绍,对该方案进行了系统参数优化及误差分析工作,从偏振测量误差来源的角度探究了偏振调制矩阵的误差影响因素,利用拟牛顿方法对方案中偏振调制矩阵的参数优化分析,以求达到全局最优解。结合庞加莱球进行了优化参数下的调制矩阵性能和偏振测量模拟结果的仿真研究。对双折射晶体材料的选取评估讨论,确定石英作为该方案最终选用的测试材料,并在充分考虑日后加工装配的基础上对双折射石英晶体薄片的编码参数进行进一步优化。然后,讨论了系统调制矩阵参数的定标方法,开展对方案中的双折射晶体薄片的快轴定标研究。对双折射石英晶体薄片进行加工,给出了加工的双折射晶体薄片的参数特性列表。分析了双折射晶体薄片快轴误差对系统的影响,并在此基础上进行了双折射晶体薄片快慢轴定标测量及编码方向确定工作。对主轴定标理论方案进行了验证,通过实验设计实现了双折射晶体薄片主轴的定标。通过在原方案上进行改进,进一步对快慢轴做出判定,对快轴定标实验中存在的误差进行分析研究。最后,开展了对方案中的双折射晶体薄片的厚度均匀性的测量定标工作。利用干涉方法完成了石英晶体厚度不均匀性的测量,通过干涉仪出射光束和反射镜反射的光束之间的干涉现象来提取石英晶体的表面形貌图像,计算石英晶体主轴偏振相位差的面形分布进而反演厚度的面形分布,从而获知整个石英晶体薄片厚度的均值分布和平面上每一点的具体厚度。
冯永康[3]（2021）在《石墨烯高次谐波椭偏依赖性的研究》文中进行了进一步梳理高次谐波是激光与物质相互作用过程中产生的一种非线性非微扰的光学现象,其一经发现便引起了人们的广泛关注。几十年来,高次谐波的研究使得许多新兴技术应运而生并极大地推动了自然科学的发展。例如,气体高次谐波不仅可以产生软X射线,合成孤立阿秒脉冲,还被应用于探测分子的手征性以及分子轨道成像等方面。近年来,随着激光技术的进一步发展,固体高次谐波也在实验中被观察到。与气体相比,固体高次谐波呈现出更加丰富的物理现象,复杂的谐波产额椭偏依赖性便是其中之一。在气体中,高次谐波随激光椭偏率的增加呈现出单调下降的特点,利用这一特性,人们不仅确定了气体谐波产生的再碰撞机制,还提出了偏振门与双光门技术用于孤立阿秒脉冲的合成。然而人们发现固体谐波的产额与激光椭偏率的依赖关系相比于气体呈现出更加复杂的特性。例如,在石墨烯以及氧化镁等材料中,有限椭偏率下的谐波产额得到了增强,呈现出先上升后下降的趋势。对于固体中这一反常现象,其物理机制还尚未清楚,至今未能有很好地解释,这极大地限制了相关器件在固体中实现的可能性。本文主要研究了石墨烯中高次谐波的椭偏依赖性。通过求解紧束缚近似下的含时薛定谔方程,我们很好地再现了Yoshikawa等人的实验结果。基于半经典的分析,我们发现石墨烯中谐波反常椭偏依赖的产生主要来源于狄拉克点周围区域产生的电子-空穴对的贡献。进一步的研究表明有限椭偏率下该区域产生的电子-空穴对能形成几乎闭合的运动轨迹,这增强了谐波产额进而导致了反常椭偏依赖的产生。此外,我们还提出了改变石墨烯化学势以及打开带隙的方法来调控石墨烯中高次谐波的椭偏依赖。本文的主要研究内容如下:首先,我们研究了石墨烯高次谐波的主要激发机制,发现石墨烯中发生电离的区域不仅仅是狄拉克点,其周围区域也会对谐波的产生有很大的贡献。进一步,通过区分带内带间电流,我们发现石墨烯中反常椭偏依赖的产生主要由带间谐波贡献。这意味着再碰撞动力学在谐波的产生中扮演着非常重要的作用。其次,我们确立了再碰撞动力学在石墨烯反常椭偏依赖产生中的重要作用。基于石墨烯零带隙的特点,我们拓展了传统的电子空穴再碰撞模型,并通过时频分析中的量子轨迹与半经典模型的经典轨迹进行对比,确立了该模型的有效性。通过半经典分析,我们发现了石墨烯谐波的反常椭偏依赖主要来源于狄拉克点周围区域的贡献。此外,我们还研究了谐波产生的最小再碰撞距离与激光椭偏率之间的依赖关系,其结果呈现出反比的特点。然后,我们深入研究了石墨烯反常椭偏依赖的产生原因并建立了清晰的物理图像。通过实空间中电子空穴的运动轨迹分析,我们发现石墨烯中有限椭偏率下电子-空穴对在实空间中能形成几乎闭合的运动轨迹,这增加了它们发生碰撞的概率,继而增大了谐波的产额。这也是石墨烯高次谐波在有限椭偏率下被增强的主要原因。最后,我们研究了石墨烯高次谐波反常椭偏依赖的调控手段。我们发现通过调节化学势以及打开带隙都能使石墨烯谐波椭偏依赖逐渐转变为正常的椭偏依赖行为。本文对石墨烯高次谐波的椭偏依赖性进行了深入具体的分析,阐释了石墨烯中反常椭偏依赖的产生机制并建立起了清晰的物理图像,这为一系列具有狄拉克点锥形结构特殊材料中椭偏依赖的研究提供了更加清晰的认识,为将来固体实验中利用激光椭偏率控制高次谐波的产生提供了理论支撑。
梁璀[4]（2021）在《光纤全偏振Sagnac磁场传感器》文中研究指明磁场是最基本的物理量之一,弱磁场的精密测量水平在很大程度上代表着国家的高科技的实力。采用磁场传感器测量磁场是常用的方法,当前磁场传感器已广泛应用于军事、地球空间物理、工业制造、生物医学等科研、生产和生活领域。根据不同测量原理,磁场传感器可分为光学和非光学两种,其中非光学磁场传感器大都具有易受电磁干扰、对温度敏感、高精度与小体积不可兼得等缺点,相比之下,光学磁场传感器则天然具有抗电磁干扰以及集成化的优势,这使得光纤磁场传感器发展尤为迅速。本课题的研究目标是在现有光纤磁场传感器的基础上,研制一种高精度、大动态范围、高稳定性的矢量型光纤磁场传感器,为解决当前光纤磁场传感器存在的灵敏度低、稳定性差、无法分辨磁场方向等问题提供技术储备,为磁场传感器在军事、工业等领域中的广泛应用服务。本文提出了一种光纤全偏振Sagnac磁场传感器,将具有高磁场敏感特性的传感单元与具有高稳定性的Sagnac系统相结合,创新性提出了采用偏振干涉检测方式精密测量弱磁信号。论文基于偏振干涉理论,利用琼斯矩阵,建立了基于Sagnac系统的弱磁检测理论模型,导出了弱磁信号与系统参数的定量数学模型,并对模型进行了仿真分析和实验验证,验证了该理论模型和检测方法的正确性和可行性,初步实验结果表明,该系统具有nT级的磁场分辨率。完成了光纤全偏振Sagnac磁场传感器的总体方案设计,突破并验证了系统中涉及的关键技术,包括磁通放大器、法拉第调制与锁相检测、偏振控制、光纤环特殊绕制等,为系统原理样机的搭建奠定了基础。完成了对弱磁传感系统的主要误差分析,包括光电检测误差、光路系统误差以及环境误差,针对各个误差源进行了详细的理论分析与仿真,提出了相应的误差抑制技术,有效提升了系统弱磁测量性能。完成了光纤全偏振Sagnac磁场传感器的实验研究,搭建的系统原理样机在调制频率100Hz、调制幅度0.75G的条件下实现了 5.6nT的直流磁场分辨率,对于已有的磁饱和强度大于500G的磁光晶体,本磁场测量系统的磁场测量动态范围大于70dB,在±2G的磁场范围内本系统测量磁场的线性度优于99.8%,本系统具有良好的稳定性,不稳定度小于0.5%。
千英达[5]（2021）在《半导体材料铟铝（镓）氮薄膜的光学性能与结构研究》文中进行了进一步梳理InAlN作为III-V族直接带隙半导体,可用于制造发光二极管（LED）,布拉格反射镜（DBR）和功率晶体管等器件。InAlN材料带隙可调范围为0.7～6.2 eV,有着优良的热化学稳定性,且在In含量为17 at%时与GaN有很好的晶格匹配度。在使用金属有机化学气相沉积法（MOCVD）生长InAlN/Ga N异质结时,由于生长Ga N层时留在反应器壁的残留物或是GaN层的扩散作用,InAlN层中会无意中掺入Ga。Ga的掺入对InAlN外延层的带隙、光学常数以及表面质量都有影响,从而改变与之相关的光电子器件的接收波长和效率以及功率晶体管的电流处理能力。生长InAlN/Ga N异质结是制作相关器件的基础步骤,了解如何抑制Ga的扩散以及Ga的掺入量对InAlN性质的影响是十分重要的。本论文研究的A,B,C三片InAl（Ga）N/Ga N样品（外延层有不同浓度的Ga掺入）,是采用脉冲式金属有机物化学气相沉积技术（PMOCVD）在蓝宝石衬底上以纳米级的不同生长结构生长而成的。通过角分辨X射线光电子能谱（ARXPS）得出样品中Ga的掺入量,表面元素的化学态和组分比以及能带偏移;采用变角度椭偏光谱（VASE）获得样品光学常数、禁带宽度和薄膜厚度等信息以及高温测试下样品的稳定性;通过拉曼光谱（Raman）得出不同温度下外延层的光生声子寿命。本文的具体研究内容和成果如下:（1）通过对比InAl（Ga）N外延层不同深度的Ga元素含量,得出Ga污染主要原因是由于GaN层的扩散作用,同时发现2 nm AlN插入层可以有效减少Ga原子的扩散量,从而减少表面缺陷密度,改善InAl（Ga）N层表面质量。（2）通过对价带偏移,导带偏移及禁带宽度计算,发现随着Ga的掺入量由20.6 at%减少至6.4 at%,InAl（Ga）N/Ga N异质结价带偏移量由0.5 e V减至0.27 e V。当Ga掺入量为20.6 at%时,InAl（Ga）N与GaN价带顶持平,Ga掺杂量的增加使异质结界面由I型跨接带隙向II型交错带隙转变。（3）通过VASE拟合所得的InAl（Ga）N层的光学常数发现,在800 K温度以下Varshni方程可以成功拟合PMOCVD法所生长的InAl（Ga）N外延层光学参数随温度的变化曲线,说明外延层物理性质未产生突变。同时得出减少Ga掺入量可以使晶格稳定性更高,而且AlN插入层可以有效改善InAl（Ga）N薄膜质量。（4）结合非谐效应中的三声子的过程和四声子过程,对在80K-580K范围内InAl（Ga）N层A1（LO）模的峰位和半峰宽的变温拉曼光谱进行拟合,得出Ga掺杂浓度较高的样品在高温下LO模声子寿命减小速率更大,薄膜稳定性更低。
蔡睿博[6]（2020）在《多灰度线性声光调制器及其在光外差干涉中的应用研究》文中研究表明随着激光器的快速发展以及优质声光晶体材料的不断研发,基于布拉格衍射的声光器件在光外差干涉测量、光通信等领域中得到了广泛的应用。在光外差干涉测量中,因为测量物品的多样性,其反射率与表面的粗糙程度会对微位移与微振动等高精密的测量产生较大的影响,所以对光外差干涉测量光路与决定声光器件品质的声光调制器驱动电源的研究是十分必要的。针对物体表面粗糙程度与反射率的不同在光外差干涉测量系统中的影响,对光学系统进行了改良,实现了双光路测量系统的设计。根据各个光学元件的特性与功能,分析了系统中非线性误差的主要来源,将具体误差进行了数学推导,并仿真分析了其结果,证实了在一定规格光学元件下,光学系统的可行性。在实际测量过程中,针对外差干涉测量系统的需求,设计一种多灰度线性声光调制器驱动源,使用以数字电位器DS3902为核心的恒流源电路,对声光调制器衍射光强的特性进行了测试,实验结果表明,衍射光强灰度值与数字电压成非线性关系,利用线性补偿技术对恒流源电路进行调制,使得调制以后的衍射光强随着灰度等级呈线性变化,线性相关系数可达99.91%,比补偿前提高了1.15%。通过多灰度光外差干涉测量系统的静态与动态实验,证实了多灰度线性声光调制器驱动电源确实可以改善测量系统的测试性能,并且有着优越的测试性能。
赵志伟[7]（2020）在《大偏转角液晶偏振光栅的研究》文中研究指明液晶偏振光栅是由液晶分子排列成180°扇柱形的周期性纳米结构器件,能够对入射光束施加某一截面直径方向上的连续变化位相使光束发生一级衍射而偏转,当光波长确定时,光栅周期越小,光束偏转角越大。理论预言光束可以100%出射在+1级或-1级衍射级次上,且偏转角范围可达到±40°。相比于其他非机械式光偏转技术,具有体积小、重量轻、偏振选择性的特点,在激光通信、遥感监测、VR与AR穿戴设备等领域中有着应用潜力巨大。目前的问题是液晶偏振光栅的周期难于做到小于2微米,故对于可见光波段的光束偏转角一般难于超过15°,而很多应用场合要求光束偏转范围要超过20°,另外对于1550nm常用光通讯波长,小周期液晶偏振光栅的偏转光束能量效率又太低,致使应用受限,而具体工艺国际上尚未报导,其光场衍射特性也不清楚。本论文针对以上问题展开了研究。对取向液晶的光控取向膜材料进行性能比对,以光控取向膜中光反应基本完毕为基准,得到最佳曝光时间,再以光反应总量为基准判断取向膜的锚定能力。发现OPA51国产材料相对一直使用的ROP进口材料来说曝光时间可以从18分钟减少到7分钟,并在液晶偏振光栅制备实验中证实OPA51光控取向膜具有足够的锚定能,确定作为本实验室今后使用的光控取向膜。针对制备光路中两相干圆偏振光束的光主光线是分开的、且光束截面光强呈高斯分布,使叠加光场边缘处的两相干光有光强差异,造成叠加光场的线偏振态椭偏化,使边缘处光栅条纹对比度下降。计算了两束相干光在非等光强下叠加光场的椭偏化程度,并且设计实验分析了在椭圆偏振光曝光下液晶分子取向度的下降得出两相干光的光强比值大于1.2时液晶的取向度明显下降,造成液晶偏振光栅的条纹对比度明显下降。因此应该严格限定两相干光的光强比在1.21.0之间,避免因为叠加光场椭偏化造成的液晶偏振光栅质量下降。另外,制备周期小于5μm光栅时两相干光主光线分开距离加大,使制备出的光栅有效面积大幅减小,提出解决的对策:将制备光路中小孔光阑后的透镜焦距加长,使相干光束光强分布的高斯曲线扁平化,从而增大叠加光场的有效面积。在制备小周期液晶偏振光栅过程中还发现光控取向膜只能诱导很薄的一层液晶呈扇柱形取向,被诱导取向的液晶层临界厚度（?）主要受光栅周期的约束,光栅周期越小液晶的扇形展曲弹性能越大,能被诱导取向的液晶临界层厚度（?）就越小,且（?）与光栅周期Λ的约束关系还会由于光控取向膜材料不同而不同,对于本研究所用的OPA51光控取向膜,实验测得的液晶层临界厚度（?）≈0.1Λ。然而偏振光栅折束器中的液晶层厚度d还必须满足（?）的条件才能达到最佳衍射效率,受衍射效率约束的液晶层厚度d远大于能被诱导取向的液晶层临界厚度dc。为此提出旋涂多层液晶、逐层光控取向的工艺,利用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）作为溶剂稀释液晶聚合物,使液晶层旋涂厚度可以减少到100nm,同时多层液晶旋涂后能够保持15mm以上直径的无缺陷光栅面积,制备出2周期、口径14mm×14mm的液晶偏振光栅折束器,使532nm激光的偏转角达到±15°、衍射效率高达98%,达到同类器件的文献报道最好水平。模拟计算表明:当入射光波长与光栅周期的几何长度接近时衍射效率会大幅下滑,如用光通讯中常用的1550nm激光入射2周期的光栅折束器时衍射效率骤降到30%,入射3周期的光栅折束器时衍射效率回升到66%,虽然偏转角达到31°,但这样的能量效率是激光通讯应用中所不能接受的。因此要继续加大出射偏转角,一味减小光栅周期的做法是行不通的,只能采用光栅级联的办法。通常每级联一个光栅都要插入一个半波片,本研究将相邻两个光栅的扇柱旋转方向反向,即可省去每级光栅前插入的半波片,减少界面损耗,减薄折束器的厚度。当光束通过第一级光栅再进入第二级光栅时产生了倾斜入射问题,不仅导致衍射效率大幅下降,且+1级和+1级的效率差距很大,而增大第二级光栅的周期可减轻这个问题。经过优化处理,级联折束器的设计应该是第一级为小周期光栅、第二级为大周期光栅,如第一级采用4.5μm周期光栅、第二级采用8μm周期光栅,对1550nm激光的级联折束器的偏转角可达31°,其+1级和-1级的衍射效率分别为83%和75%,是可以接受的能量效率以及能量差距。通过本论文的研究,有效挖掘了液晶偏振光栅在激光雷达、激光通信等工程领域中的应用潜力,加速了工业化进展。
吴晨灏[8]（2020）在《正交偏光全息再现性质研究》文中提出普通全息是通过记录信号光和参考光的相互干涉将振幅和相位信息记录在全息图中。与普通全息不同的偏光全息,是通过两束不同偏振态的记录信号光和参考光相互干涉,用偏振敏感材料进行记录。在这种情况下,全息图不仅记录了振幅和相位信息,还有偏振态的信息。偏光全息由于其记录光场偏振信息的独特能力,在首次被提出后就引起了研究人员的广泛兴趣。早期对于偏光全息的研究是基于琼斯理论开展的,然而该理论仅在傍轴近似的条件下才能成立,即信号光和参考光之间的干涉角须近似为零,并不适用于大角度干涉记录的情形。直到几年前,一个基于介电张量的偏光全息理论被提出。该理论将记录材料对偏振光场的响应以张量方法处理,并用关于电场的函数表示介电张量的变化,接着结合耦合波理论,运用麦克斯韦方程,描述了偏光全息的记录过程与再现过程,从而推导出衍射光的表达式。这个基于新方法的偏光全息理论,可以突破傍轴条件的限制,研究任意干涉角度下偏光全息的性质。本文将基于张量方法的偏光全息理论,对正交偏光全息再现性质展开研究。在分析了偏光全息的记录过程与再现过程后,分别对基于正交线偏振光和正交椭圆偏振光的偏光全息再现性质通过建立数学模型的方式进行理论分析。结果发现,在正交线偏光的偏光全息中,当干涉角小于90?时,用偏振态与记录参考光相同和正交的线偏振光分别读取全息图,衍射光可以实现忠实再现和正交再现;而当干涉角为90°的时候,用任意偏振态的再现参考光读取全息图,衍射光始终可以实现忠实再现。在正交椭圆偏振光的偏光全息中,利用一束线偏振光作为再现参考光读取全息图,可以实现衍射光的忠实再现,但是在干涉角小于90?时记录材料需要满足严格的曝光条件,而在干涉角为90?时则无需附加条件。我们设计并搭建了实验平台,得到的实验结果与理论分析的结果一致。
李清灵[9]（2019）在《水面溢油偏振特性及紫外偏振成像技术研究》文中认为水面溢油危害生态环境与工业生产的正常运行。及时准确发现溢油位置、溢油量、溢油类型等信息是开展污染危害分析和控制的关键手段。紫外偏振遥感是一种新型的光学遥感方式,国内外研究表明溢油在紫外波段和偏振维度具有探测潜力。为提高水面溢油的探测效率与识别能力,开展水面溢油偏振特性和紫外偏振成像技术研究具有重要的科学意义和工程价值。针对大气环境下水面溢油目标的反射光偏振特性,介绍了在Stokes表征下,光在油膜介质中偏振传输的影响因素,基于油膜的产生机理,建立光滑单层油膜物理模型。采用椭偏测量法测量油膜270900nm的光谱椭偏参数,验证了水面溢油反射偏振特性在紫外波段的鲁棒性。分析了大气环境下目标偏振探测涉及的偏振辐射传过程和数学模型,采用数值仿真手段分析了不同太阳位置、大气成分和观测角度条件下水面溢油和水的紫外反射偏振态,对偏振成像系统提出指标要求。根据系统要求提出了一种实时、大视场和高分辨率的紫外偏振成像总体方案,分析了系统方案的偏振信噪比和偏振测量误差。搭建紫外四通道偏振成像系统,完成了紫外偏振成像原理样机的集成、光校和辐射信噪比测试。提出一种用于偏振成像系统的定标方法,对研制的原理样机进行了辐射定标和偏振定标,将偏振片安装角度偏差造成的90%以上系统误差减小到低于10%。通过搭建实验平台,针对大气环境下的油膜目标完成了外场成像实验,完成了通道匹配、多维双边滤波、偏振态解算和偏振图像融合等偏振图像预处理方法。成像结果表明在外场实验环境条件下,薄油膜的紫外反射偏振度为0.8,与水的相对偏振度差为0.05,验证了油膜目标仿真结论,体现紫外偏振在水面溢油观测中的重要作用,为后续开展溢油区划分和油类分辨的深入研究奠定了坚实基础。
陈伟[10]（2019）在《基于光学偏振的玻璃应力测量仪研究》文中研究指明平板玻璃是一种广泛用于日用品、建筑、汽车、航空航天、电子通讯等领域的材料,但平板玻璃退火过程中的温度差、结构成分的不均匀以及外力的作用都会使玻璃中产生应力而造成玻璃的失效或破坏,因此,对玻璃内应力的测定愈发至关重要,玻璃内应力的测定不仅可以用于平板玻璃品质的检测,还可以指导内应力的消除与削减,改善和提高玻璃产品的性能。本文围绕基于光学偏振的玻璃应力测量展开研究,从研究背景与意义、应力双折射的形成原理与测量方法、应力测量仪器的设计与实现、应力测量仪器的性能评估与应用等四部分进行深入研究,本文所完成的具体内容如下:（1）介绍了玻璃内应力的分类、产生原因和玻璃应力检测的目的及意义,并介绍了已有的应力双折射测定方法和部分国内外在应力测量仪器方面的研究。（2）阐述了有关应力测量方面的基础理论及常用应力双折射的测量方法,详细阐述了偏振感色测量法和单1/4波片测量法的测量原理,在偏振感色测量法和单1/4波片测量法的共性基础上,完成两种测量方法的系统建模。（3）设计了偏振感色应力仪和单1/4波片应力仪的光路系统,完成了光学器件的选型与确定,以及光源与起偏模块、调光与检偏模块和仪器支撑部件三个模块的结构设计。（4）对应力测量仪进行性能评估,实现偏振感色应力仪的半定量化测量应力双折射和单1/4波片应力仪定量化测量应力双折射。开展应力测量仪应用研究,主要完成了对手机钢化膜的应力双折射的测量,展现应力测量仪的应用前景。
二、椭圆偏振光的检验与偏振光的干涉（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、椭圆偏振光的检验与偏振光的干涉（论文提纲范文）
（1）基于Pockels效应的交直流混合场一体化测量方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.2 光学电场传感技术发展历程 |
| 1.3 国内外研究现状 |
| 1.3.1 光学电场互感器国内外研究现状 |
| 1.3.2 混合场检测国内外研究现状 |
| 1.4 本文研究思路与内容 |
| 1.4.1 基本研究思路 |
| 1.4.2 主要研究内容 |
| 第2章 旋转式交直流电场传感机理及分析 |
| 2.1 晶体光学理论基础 |
| 2.2 旋转式光电场传感数学模型 |
| 2.2.1 旋转电光晶体Pockels效应模型 |
| 2.2.2 旋转式光学电场传感机理 |
| 2.3 直流、交流以及交直流混合场测量方法 |
| 2.3.1 直流电场测量方法 |
| 2.3.2 交流电场测量方法 |
| 2.3.3 交直流混合电场测量方法 |
| 2.4 旋转式光学电场有限元模型及分析 |
| 2.4.1 Comsol多物理场仿真参数设置 |
| 2.4.2 波动光学模块 |
| 2.4.3 射线光学模块 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 旋转BGO晶体空间电场分析及优化 |
| 3.1 旋转BGO晶体空间电场分析 |
| 3.2 BGO晶体空间电场均匀度影响因素 |
| 3.2.1 通光介质对电场均匀度的影响 |
| 3.2.2 晶体宽度对电场均匀度的影响 |
| 3.2.3 晶体长度对电场均匀度的影响 |
| 3.3 晶体周围电场分布改善措施 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 光学混合场一体化测量信号处理方法 |
| 4.1 基于Kalman滤波的信号滤波算法 |
| 4.1.1 扩展卡尔曼算法基本原理 |
| 4.1.2 电场测量滤波算法实现 |
| 4.2 基于旋转频率的时-频变换技术 |
| 4.2.1 基于Fourier变换的输出信号处理算法 |
| 4.2.2 Hilbert-Huang电场输出信号时频变换算法 |
| 4.3 基于旋转频率的测量方案 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 交直流混合场一体化测量实验 |
| 5.1 光学电场传感校验平台 |
| 5.2 光学传感器单一场标定实验 |
| 5.2.1 交流电场标定实验及误差分析 |
| 5.2.2 直流电场标定实验及误差分析 |
| 5.3 光学传感器混合场测量实验 |
| 5.4 本章小结 |
| 第6章 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 |
| 致谢 |
（2）双折射晶体薄片快轴和厚度均匀性定标技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 国内外研究进展及现状 |
| 1.2.1 偏振成像探测技术的研究进展 |
| 1.2.2 分焦平面偏振成像探测技术的发展 |
| 1.2.3 双折射晶体薄片快轴判别及厚度测量技术的发展 |
| 1.3 论文主要内容及章节安排 |
| 第二章 偏振测量理论和双折射晶体编码的成像方案设计 |
| 2.1 偏振测量基本原理与误差分析 |
| 2.1.1 偏振光的表示方法 |
| 2.1.2 偏振测量原理 |
| 2.1.3 偏振调制方法 |
| 2.1.4 偏振测量误差分析 |
| 2.2 基于双折射晶体编码的分焦平面偏振成像方案 |
| 2.2.1 总体方案设计 |
| 2.2.2 偏振调制矩阵的参数优化与系统误差评估 |
| 2.2.3 双折射晶体材料选取与编码参数确定 |
| 2.2.4 双折射晶体薄片的定标方法与基于条件数的误差分析 |
| 2.3 本章小结 |
| 第三章 双折射晶体薄片快轴定标技术研究 |
| 3.1 双折射晶体薄片加工 |
| 3.1.1 加工工艺与步骤 |
| 3.1.2 晶体薄片的参数特性 |
| 3.2 双折射晶体薄片快轴误差对系统的影响 |
| 3.3 快慢轴定标及编码方向确定 |
| 3.3.1 快慢轴测量原理与方案设计 |
| 3.3.2 实验结果与误差分析 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 双折射晶体薄片厚度均匀性定标技术研究 |
| 4.1 双折射晶体薄片厚度编码误差对系统的影响 |
| 4.2 厚度均匀性测量定标 |
| 4.2.1 干涉法测量晶体薄片厚度 |
| 4.2.2 双折射晶体薄片的厚度分布 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间的研究成果 |
（3）石墨烯高次谐波椭偏依赖性的研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 激光技术的发展历史 |
| 1.2 激光与物质的相互作用 |
| 1.3 固体高次谐波的研究现状 |
| 1.3.1 固体谐波的发现及产生机制 |
| 1.3.2 固体高次谐波复杂的椭偏依赖 |
| 1.3.3 固体高次谐波的应用 |
| 1.4 本文的主要工作和内容安排 |
| 第二章 理论与方法 |
| 2.1 紧束缚模型 |
| 2.2 激光场形式 |
| 2.3 含时薛定谔方程 |
| 2.3.1 激光与石墨烯相互作用的含时薛定谔方程 |
| 2.3.2 Crank-Nicolson方法求解含时薛定谔方程 |
| 2.4 半经典再碰撞模型 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 石墨烯高次谐波椭偏依赖的半经典分析 |
| 3.1 数值模拟结果与实验结果的对比 |
| 3.2 石墨烯高次谐波的主要产生机制 |
| 3.3 半经典再碰撞模型的拓展 |
| 3.4 石墨烯高次谐波的再碰撞动力学 |
| 3.4.1 线偏振光下电子空穴对的再碰撞轨迹 |
| 3.4.2 椭圆偏振光下电子空穴对的再碰撞轨迹 |
| 3.4.3 再碰撞距离与椭偏依赖的关系 |
| 3.5 电子-空穴对的实空间运动轨迹分析 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 石墨烯高次谐波椭偏依赖的调控 |
| 4.1 化学势对石墨烯椭偏依赖的操控 |
| 4.2 开带隙石墨烯椭偏依赖行为的转变 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 附录 |
| A.1 交叠矩阵的影响 |
| 在学期间的研究成果 |
| 致谢 |
（4）光纤全偏振Sagnac磁场传感器（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 磁场传感器 |
| 1.2 光纤磁场传感器 |
| 1.3 研究内容及创新点 |
| 2.光纤全偏振Sagnac磁场传感的理论 |
| 2.1 磁光效应理论 |
| 2.2 磁光晶体磁光特性 |
| 2.3 光干涉理论 |
| 2.4 光纤Sagnac干涉结构及偏振检测理论 |
| 2.5 描述偏振光的数学模型 |
| 2.6 晶体位相延迟理论 |
| 2.7 本章小结 |
| 3.光纤全偏振Sagnac磁场传感器关键技术 |
| 3.1 系统总体方案 |
| 3.2 磁光信号传输模型与仿真 |
| 3.3 磁通放大理论及磁通放大器的仿真与设计 |
| 3.4 磁光调制理论与锁相检测技术 |
| 3.5 偏振控制模型、仿真与实验结果 |
| 3.6 高稳定性光纤环绕制技术 |
| 3.7 本章小结 |
| 4.光纤全偏振Sagnac磁场传感器误差模型与抑制技术 |
| 4.1 光电检测误差模型及抑制技术 |
| 4.2 光路系统误差模型及抑制技术 |
| 4.3 磁-温交联耦合误差模型及抑制技术 |
| 4.4 本章小结 |
| 5.光纤全偏振Sagnac磁场传感器实验结果与分析 |
| 5.1 系统搭建 |
| 5.2 信号特性分析与处理 |
| 5.3 系统整体性能实验 |
| 5.4 本章小结 |
| 6 总结与展望 |
| 6.1 论文完成工作的总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 作者简介 |
| 攻读博士学位期间的科研成果 |
（5）半导体材料铟铝（镓）氮薄膜的光学性能与结构研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 InAlN材料物理性质及应用方向 |
| 1.3 InAlN材料的生长工艺 |
| 1.4 论文研究内容及章节安排 |
| 第二章 实验表征测量和仪器介绍 |
| 2.1 X射线光电子能谱 |
| 2.1.1 X射线光电子能谱原理介绍 |
| 2.1.2 X射线光电子能谱实验仪器介绍 |
| 2.2 椭圆偏振光谱 |
| 2.2.1 椭圆偏振光谱原理介绍 |
| 2.2.2 椭圆偏振光谱实验仪器介绍 |
| 2.3 原子力显微镜 |
| 2.4 场发射扫描电镜 |
| 2.5 高分辨X射线衍射谱 |
| 2.5.1 X射线衍射谱原理介绍 |
| 2.5.2 X射线衍射谱仪介绍 |
| 2.6 拉曼光谱 |
| 第三章 InAl(Ga)N薄膜表面化学键及能带结构研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 InAl(Ga)N薄膜X射线光电子能谱分析 |
| 3.3 InAl(Ga)N薄膜角分辨X射线光电子能谱分析 |
| 3.4 InAl(Ga)N/GaN异质结构能带偏移分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 InAl(Ga)N样品结构及薄膜光学性质分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 InAl(Ga)N样品结构分析 |
| 4.3 InAl(Ga)N薄膜光学性质分析 |
| 4.4 InAl(Ga)N薄膜变温下光学性质变化 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 InAl(Ga)N晶体结构分析 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 InAl(Ga)N薄膜X射线衍射分析 |
| 5.3 InAl(Ga)N薄膜拉曼光谱分析 |
| 5.4 变温下InAl(Ga)N薄膜光学声子模分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 未来展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读学位期间发表论文情况 |
（6）多灰度线性声光调制器及其在光外差干涉中的应用研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 论文研究背景及意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.3 本文的主要研究内容 |
| 第二章 外差干涉测量系统的总体设计 |
| 2.1 多灰度光外差干涉测量系统的设计 |
| 2.2 多普勒频移 |
| 2.3 光隔离系统 |
| 2.4 声光调制系统 |
| 2.5 多灰度光外差干涉测量系统 |
| 2.6 正交偏振光的干涉原理 |
| 2.7 本章小结 |
| 第三章 多灰度线性声光调制器驱动电路的设计 |
| 3.1 多灰度线性声光调制器的总体设计 |
| 3.2 声光调制器驱动器的设计 |
| 3.3 多灰度线性声光调制器驱动电源的设计 |
| 3.3.1 数字电位器DS3902 |
| 3.3.2 恒流源电路的设计 |
| 3.3.3 声光调制器性能的测试 |
| 3.3.4 线性电压补偿技术 |
| 3.3.5 声光调制器驱动电源的辅助电路 |
| 3.3.6 灰度等级显示电路 |
| 3.3.7 USB下载电路 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 系统误差分析及器件的选型与测试 |
| 4.1 非线性误差源 |
| 4.1.1 激光光源 |
| 4.1.2 声光调制器 |
| 4.1.3 偏振分光棱镜 |
| 4.1.4 四分之一波片 |
| 4.2 理想情况下的正交偏振干涉 |
| 4.3 非线性误差分析 |
| 4.3.1 光源误差分析 |
| 4.3.2 四分之一波片非线性误差分析 |
| 4.3.3 PBS非线性误差分析 |
| 4.3.4 测量信号强度分析 |
| 4.4 器件的选型 |
| 4.4.1 激光光源 |
| 4.4.2 声光调制器的选型 |
| 4.4.3 偏振分光棱镜 |
| 4.4.4 光电探测器 |
| 4.4.5 压电陶瓷 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 实验及数据分析 |
| 5.1 搭建实验平台 |
| 5.2 灰度等级调制实验 |
| 5.3 动态实验 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 |
| 致谢 |
（7）大偏转角液晶偏振光栅的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.2 液晶偏振光栅的工作原理 |
| 1.3 几何相位的理论 |
| 1.4 几何相位元件 |
| 1.5 液晶偏振光栅的国内外进展 |
| 1.5.1 液晶偏振光栅几何相位的琼斯矩阵表达 |
| 1.5.2 液晶偏振光栅的国内外进展及应用 |
| 1.6 本论文的主要内容 |
| 第2章 液晶偏振光栅的制备光路设计及光控取向特性分析 |
| 2.1 圆偏振光的偏振全息 |
| 2.2 液晶偏振光栅的制备光路分析 |
| 2.2.1 传统的液晶偏振光栅的制备光路 |
| 2.2.2 迈克尔逊干涉式制备光路 |
| 2.2.3 其他方法制备液晶偏振光栅 |
| 2.2.4 马赫曾德式液晶偏振光栅制备光路 |
| 2.2.5 马赫曾德干涉式制备光栅遇到的问题 |
| 2.3 液晶偏振光栅的光控取向特性研究分析 |
| 2.3.1 液晶以及液晶分子的排列方法 |
| 2.3.2 液晶光控取向的原理 |
| 2.3.3 缩短光控取向曝光时间的研究 |
| 2.4 OPA51 光控取向膜制备的液晶偏振光栅 |
| 2.5 叠加光场的稳定性改善 |
| 2.6 非等光强下叠加光场以及光控取向特性分析 |
| 2.6.1 非等光强下的叠加光场 |
| 2.6.2 不同椭偏度的光场的光控取向特性 |
| 2.7 本章小结 |
| 第3章 被动式液晶偏振光栅临界厚度的研究 |
| 3.1 偏振光栅的分类及其制备工艺 |
| 3.2 液晶偏振光栅的临界厚度 |
| 3.2.1 液晶偏振光栅的连续弹性体理论与主动式液晶偏振光栅的临界厚度 |
| 3.2.2 被动式液晶偏振光栅临界厚度 |
| 3.2.3 被动式液晶偏振光栅临界厚度的测量 |
| 3.3 本章小结 |
| 第4章 大偏转角的液晶偏振光栅的结构设计 |
| 4.1 具有大偏转角反射式液晶偏振光栅的结构设计与实现 |
| 4.1.1 大偏转角反射式液晶偏振光栅的结构设计 |
| 4.1.2 反射式复合型液晶偏振光栅的制备 |
| 4.2 液晶偏振光栅理论模型的建立以及液晶偏振光栅光学特性的模拟 |
| 4.3 复合型波片液晶偏振光栅的制备 |
| 4.4 液晶偏振光栅的极限光束偏转角分析 |
| 4.4.1 液晶偏振光栅级联结构设计 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（8）正交偏光全息再现性质研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 偏光全息的研究背景 |
| 1.2.1 光的偏振 |
| 1.2.2 偏光全息简介 |
| 1.3 国内外研究现状及发展趋势 |
| 1.4 本文的主要内容和创新点 |
| 第二章 基于介电张量的偏光全息理论简介 |
| 2.1 光致各向异性材料模型及其介电张量分析 |
| 2.2 偏光全息的记录过程与再现过程 |
| 2.3 正交偏光全息衍射光 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 偏光全息材料的制备及检验 |
| 3.1 偏光全息记录材料简介 |
| 3.2 偏光全息材料的制备 |
| 3.3 偏光全息材料特性检验 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 正交线偏光全息理论分析与实验验证 |
| 4.1.1 理论分析 |
| 4.1.2 实验步骤 |
| 4.1.3 实验结果 |
| 4.2 在干涉角θ=90°时衍射光忠实再现的性质分析 |
| 4.2.1 理论分析 |
| 4.2.2 实验步骤 |
| 4.2.3 不同偏振态的再现参考光的获得 |
| 4.2.4 实验结果 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 正交椭圆偏光全息的忠实再现性质 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 理论分析 |
| 5.3 椭圆偏振光的产生及检测 |
| 5.4 实验步骤 |
| 5.5 实验结果 |
| 5.6 本章小结 |
| 第六章 总结与未来展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 未来研究展望 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
（9）水面溢油偏振特性及紫外偏振成像技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 符号缩写说明 |
| 第一章 引言 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.2 紫外偏振成像技术国内外研究现状 |
| 1.2.1 紫外成像探测技术 |
| 1.2.2 偏振成像探测技术 |
| 1.2.3 紫外偏振光相关研究 |
| 1.3 研究内容与论文安排 |
| 第二章 水面溢油偏振特性与大气辐射传输机制研究 |
| 2.1 辐射偏振传输的Stokes表征及穆勒矩阵 |
| 2.2 辐射传输中的偏振变化 |
| 2.2.1 辐射源的偏振 |
| 2.2.2 介质界面反射与透射的偏振变化 |
| 2.2.3 散射的偏振态变化 |
| 2.3 水面溢油紫外偏振响应分析 |
| 2.3.1 水面溢油的光谱特性 |
| 2.3.2 水面溢油的紫外偏振特性解释 |
| 2.3.3 光滑水面溢油偏振建模 |
| 2.4 水面溢油光谱椭偏参数的测量 |
| 2.4.1 液体椭偏测量方法 |
| 2.4.2 椭偏测量方法在水和油样本中的验证 |
| 2.4.3 油膜样品与油、水的光谱椭偏测量结果分析 |
| 2.4.4 油膜椭偏模型的测量结果 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 水面溢油-大气偏振传输建模与仿真 |
| 3.1 入射光偏振态和水面溢油参数对反射光偏振态的影响 |
| 3.1.1 光谱与偏振响应的关系 |
| 3.1.2 油膜厚度 |
| 3.1.3 空间位置分布关系 |
| 3.1.4 入射光偏振态 |
| 3.1.5 探测带宽 |
| 3.2 大气-水面偏振传输过程的数学表达 |
| 3.2.1 辐射在大气中的偏振传输 |
| 3.2.2 水面目标偏振传输模型 |
| 3.2.3 偏振遥感器传输模型 |
| 3.3 偏振传输方程的求解方法 |
| 3.4 大气-水面溢油紫外偏振传输建模 |
| 3.4.1 大气顶层辐射的约定 |
| 3.4.2 大气模型的建立 |
| 3.4.3 不同气候模型下紫外大气偏振仿真结果 |
| 3.4.4 粗糙表面油膜pBRDF模型 |
| 3.5 紫外大气-水面溢油偏振传输数值仿真结果及分析 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 紫外偏振成像系统方案设计与误差分析 |
| 4.1 系统总体设计方案与系统组成 |
| 4.1.1 线偏振测量方法 |
| 4.1.2 系统总体设计要求 |
| 4.2 系统辐射信噪比分析 |
| 4.2.1 辐射噪声来源 |
| 4.2.2 单通道辐射信噪比推导 |
| 4.2.3 多通道系统偏振信噪比分析 |
| 4.3 系统偏振误差分析 |
| 4.3.1 消光比的影响 |
| 4.3.2 偏振片安装角度偏差的影响 |
| 4.3.3 轴外视场的偏振误差影响 |
| 4.4 探测器子系统 |
| 4.4.1 紫外响应CMOS探测器介绍 |
| 4.4.2 探测器选择 |
| 4.5 光学子系统 |
| 4.5.1 紫外镜头选型 |
| 4.5.2 紫外滤光片选型 |
| 4.5.3 紫外偏振片选型 |
| 4.6 电子学软硬件子系统要求 |
| 4.7 系统噪声与误差估算 |
| 4.7.1 系统信噪比估算 |
| 4.7.2 系统偏振误差估算 |
| 4.8 本章小结 |
| 第五章 紫外偏振成像系统实现 |
| 5.1 系统硬件电路实现 |
| 5.1.1 CMOS探测器驱动模块 |
| 5.1.2 FPGA主控模块 |
| 5.1.3 全双工数据传输模块 |
| 5.1.4 GPS姿态模块 |
| 5.1.5 电源模块 |
| 5.2 FPGA软件设计 |
| 5.2.1 FPGA内部功能架构 |
| 5.2.2 探测器控制时序及图像采集模块设计 |
| 5.2.3 千兆以太网通信设计 |
| 5.2.4 422 通信设计 |
| 5.3 上位机软件实现 |
| 5.4 系统集成装调与性能测试 |
| 5.4.1 成像系统结构组成 |
| 5.4.2 光学装校和MTF测试 |
| 5.4.3 系统信噪比测试 |
| 5.5 系统定标及偏振响应测试 |
| 5.5.1 系统辐射定标方法 |
| 5.5.2 偏振定标方法 |
| 5.5.3 偏振定标误差 |
| 5.5.4 系统偏振响应测试及偏振定标实验 |
| 5.6 本章小结 |
| 第六章 外景成像实验与模型验证 |
| 6.1 水面溢油目标实验概述 |
| 6.2 偏振图像预处理技术 |
| 6.2.1 多维双波滤波去噪处理 |
| 6.2.2 偏振成像图像融合处理方法研究 |
| 6.3 水面溢油图像处理及原理验证 |
| 6.4 本章小结 |
| 第七章 总结和展望 |
| 7.1 完成的研究工作总结 |
| 7.2 主要创新点 |
| 7.3 后续工作展望 |
| 参考文献 |
| 附录 偏振定标方法数学模型推导过程 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
| 致谢 |
（10）基于光学偏振的玻璃应力测量仪研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 课题来源 |
| 1.2 课题研究背景与意义 |
| 1.3 国内外研究现状 |
| 1.4 本文主要研究工作 |
| 2 偏振检测理论研究 |
| 2.1 应力测量理论基础 |
| 2.2 应力测量系统模型研究 |
| 2.3 本章小结 |
| 3 仪器的设计与实现 |
| 3.1 仪器光路设计 |
| 3.2 光学器件选型 |
| 3.3 仪器结构设计 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 应力测量仪的性能评估与应用 |
| 4.1 仪器性能评估 |
| 4.2 应力测量仪的应用 |
| 4.3 本章小结 |
| 5 总结与展望 |
| 5.1 全文总结 |
| 5.2 研究展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录1 攻读硕士学位期间申请的国家发明专利 |
四、椭圆偏振光的检验与偏振光的干涉（论文参考文献）
- [1]基于Pockels效应的交直流混合场一体化测量方法研究[D]. 高利. 华北电力大学(北京), 2021(01)
- [2]双折射晶体薄片快轴和厚度均匀性定标技术研究[D]. 许多. 电子科技大学, 2021(01)
- [3]石墨烯高次谐波椭偏依赖性的研究[D]. 冯永康. 兰州大学, 2021(09)
- [4]光纤全偏振Sagnac磁场传感器[D]. 梁璀. 浙江大学, 2021(01)
- [5]半导体材料铟铝（镓）氮薄膜的光学性能与结构研究[D]. 千英达. 广西大学, 2021(12)
- [6]多灰度线性声光调制器及其在光外差干涉中的应用研究[D]. 蔡睿博. 中北大学, 2020(11)
- [7]大偏转角液晶偏振光栅的研究[D]. 赵志伟. 中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所), 2020(08)
- [8]正交偏光全息再现性质研究[D]. 吴晨灏. 福建师范大学, 2020(12)
- [9]水面溢油偏振特性及紫外偏振成像技术研究[D]. 李清灵. 中国科学院大学(中国科学院上海技术物理研究所), 2019(03)
- [10]基于光学偏振的玻璃应力测量仪研究[D]. 陈伟. 华中科技大学, 2019(03)